Estágio de movimento do pórtico XYZT para inspeção de wafer

Nosso estágio de movimento de pórtico XYZT para inspeção de wafer integra bases de granito de alta rigidez, guias de rolamento de ar, acionamentos de motor linear e codificadores ópticos de precisão para obter precisão de posicionamento de ± 1 µm e repetibilidade de ± 0,1 µm. Projetados para operação 24 horas por dia, 7 dias por semana em ambientes de sala limpa (Classe 100/Classe 10), nossos estágios de pórtico apresentam vibração ultrabaixa, alta resposta dinâmica (velocidade máxima de 500 mm/s) e estabilidade térmica para garantir detecção confiável de defeitos de wafer e metrologia dimensional em todo o ciclo de vida da produção.

● Estágio de movimento de pórtico XYZT personalizado para inspeção de wafer, projetado de acordo com as especificações do seu equipamento de inspeção de wafer e desenhos CAD

● Precisão de posicionamento de ±1µm com repetibilidade em nível nanométrico (±0,1µm) para medições críticas de wafer

● Tecnologia de rolamento pneumático para movimento sem atrito e geração zero de partículas em ambientes de sala limpa

● Design termicamente estabilizado com controle de temperatura ativo (±0,01°C) para precisão ultra-alta

● Fabricação certificada pela ISO 9001:2015 com rastreabilidade total para conformidade da indústria de semicondutores

Principais recursos e principais vantagens

Projeto Mecânico de Alta Rigidez

Nosso estágio de movimento de pórtico XYZT para inspeção de wafer apresenta bases de granito monolítico (coeficiente de expansão térmica <0,5 × 10⁻⁶/°C) e vigas de pórtico de polímero reforçado com fibra de carbono (CFRP) para rigidez estrutural excepcional e deformação térmica mínima. O design simétrico do pórtico elimina o erro Abbe e garante uma distribuição uniforme da carga em toda a área de inspeção do wafer.

Sistema de controle de movimento de precisão

Integrados com acionamentos de motor linear de alto desempenho (folga zero, alta aceleração) e codificadores ópticos absolutos (resolução de 1 nm), nossos estágios de pórtico XYZT oferecem movimento suave e preciso com precisão submícron. O algoritmo avançado de servocontrole compensa erros dinâmicos e garante estabilidade de posicionamento em nível nanométrico durante operações de varredura de wafer.

Design pronto para sala limpa

Cada estágio de movimento de pórtico XYZT para inspeção de wafer é projetado para operação em sala limpa Classe 100/Classe 10 com componentes compatíveis com vácuo, guias lineares seladas e materiais de baixa emissão de gases (em conformidade com SEMI S2-0701). A tecnologia de rolamento pneumático elimina a geração de partículas, enquanto o sistema fechado de gerenciamento de cabos evita a contaminação durante os ciclos de inspeção de wafers em alta velocidade.

Especificações Técnicas

Especificações Mecânicas

Material de base: Granito preto (00级) / composto CFRP

Sistema de guia: Rolamentos pneumáticos de precisão / guias de rolos lineares

Sistema de acionamento: Motores lineares sem escova/servo motores com fusos de esferas

Feedback: codificadores ópticos absolutos (resolução de 1nm)

Especificações Ambientais

● Temperatura operacional: 20±0,5°C (controle térmico ativo)

● Classificação de sala limpa: Classe 100 (ISO Classe 5) / Classe 10 (ISO Classe 4)

● Isolamento de vibração: Sistema de controle de vibração ativo/passivo

● Fonte de alimentação: 200-240 V CA, 50/60 Hz, monofásica/trifásica

Aplicativos

● Digitalização em alta velocidade de wafers de 200 mm/300 mm/450 mm para defeitos de partículas e padrões

● Posicionamento em nível nanométrico para sistemas de detecção de defeitos ópticos/microscópicos

● Compensação dinâmica de planicidade para inspeção de wafers empenados

● Integração com ferramentas de inspeção por varredura a laser e microscopia eletrônica

Metrologia de Wafer

Metrologia Dimensional de Wafer

● Medição precisa da espessura do wafer, curvatura e parâmetros de deformação

● Alinhamento de nível submícron para sistemas de metrologia de sobreposição

● Posicionamento termicamente estabilizado para metrologia sensível à temperatura

● Metrologia automatizada em linha para processos de fabricação de wafers

Processamento de wafer

Processamento e manuseio de wafer

● Alinhamento de alta precisão para processos de litografia e gravação de wafer

● Sistemas de manuseio e transferência de wafers compatíveis com salas limpas

● Posicionamento dinâmico para operações de corte em cubos a laser e desbaste de wafer

● Integração com sistemas robóticos de manipulação e automação de wafers